技术文章/ article

您的位置:首页  -  技术文章  -  跨越纳米光刻与深空探测极限:PBM18Y高均质玻璃以材料科学重塑光学边界

跨越纳米光刻与深空探测极限:PBM18Y高均质玻璃以材料科学重塑光学边界

更新时间:2026-09-24      浏览次数:7

在先进半导体制造逼近物理极限、深空探测不断突破人类视界的今天,光学系统的最终性能往往受制于最基础的光学材料。近日,深圳市京都玉崎电子有限公司正式引进日本小原光学(OHARA)i-Line系列中的旗舰级高均质玻璃——PBM18Y。该材料凭借在近紫外波段的光学表现与大尺寸均匀性,为光刻设备、天文光谱仪等仪器提供了核心的光学引擎材料。

抵御光子通量衰减:近紫外耐候性的平衡

在365nm波长的近紫外严苛工况下,材料的透光率与抗光辐照能力直接决定了设备的使用寿命与长期稳定性。根据数据,PBM18Y在10毫米厚度下的内部透过率达到0.993。同时,其太阳能抵抗能力获评“Good"级别。这意味着该材料在长期高强度紫外辐照下,能有效抑制材料内部色心的形成,大幅减缓光子通量衰减,确保光刻机照明系统与天文观测仪器在常年连续运转中维持能量输出稳定性。

打破波前畸变瓶颈:Φ260mm级大尺寸均匀性阶梯

对于光刻物镜和大型天文望远镜而言,镜片内部任何微小的折射率波动,都会在光路传输中放大为致命的波前畸变。PBM18Y的核心技术突破在于其严苛的光学均匀性控制。针对不同口径的镜片,它展现了匀性阶梯:

针对Φ160mm及以下尺寸,光学均匀性指标达到 1.0×10⁻⁶;

针对Φ210mm及以下尺寸,指标为 1.6×10⁻⁶;

针对Φ260mm及以下尺寸,指标仍能稳定保持在 2.0×10⁻⁶。

这种在超大口径下仍能维持均匀性的能力,使得PBM18Y在加工成大尺寸精密透镜或分束镜时,能从源头大幅降低系统级的像差补偿难度,保障最终成像的极限分辨率。

批次一致性:赋能多镜片精密量产

除了绝对参数,光学制造更看重材料的一致性。PBM18Y在折射率控制上展现了工艺水准:单一批次内的ni偏差被严格限制在 ±2×10⁻⁵ 以内,折射率公差精确锁定在 +10±20×10⁻⁵ 的极窄区间。这种的批次稳定性,对于需要多镜片组精密装配的半导体步进相机(Stepper)照明系统至关重要,它确保了不同批次镜片在组装后,光学系统仍能维持统一的焦平面与数值孔径。

核心应用与产业赋能

凭借出色的紫外透光性能与均匀性,PBM18Y已成为光学系统的理想之选。在半导体制造领域,它是高精度光刻透镜、照明系统匀光元件的核心基材;在科研领域,它被广泛用于制造天文光学系统中的光谱仪相机镜头和精密分束镜,助力捕捉宇宙深处的微弱光线

深圳市京都玉崎电子有限公司作为专业的电子计测与光学设备代理商,长期致力于将全球顶尖的精密材料引入国内市场。公司可为客户提供PBM18Y及i-Line系列全型号的选型咨询、原装现货供应与深度的技术支持,助力国内半导体装备与前沿科研突破材料瓶颈,实现更高水平的跨越式发展



产品分类

products category

关于我们
新闻资讯
联系我们
产品中心
扫一扫
加微信
版权所有©2026 深圳市京都玉崎电子有限公司 All Rights Reserved   备案号:粤ICP备2022020191号   sitemap.xml   技术支持:化工仪器网   管理登陆

TEL:

扫码添加微信