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更新时间：2026-09-24 
浏览次数：7在先进半导体制造与深空探测领域，光学系统的最终性能极限，往往取决于基础光学材料的品质。近日，深圳市京都玉崎电子有限公司正式向国内市场推介由日本小原光学（OHARA）研发的i-Line系列高性能高均质玻璃——PBL35Y。该材料在近紫外波段凭借透光率、出色的抗光辐照能力与批次稳定性，为光刻物镜与天文光谱仪提供了核心材料支撑。
近紫外高透与抗光辐照的融合
根据小原光学资料，PBL35Y在10毫米厚度、365nm波长下的内部透过率高达0.997。这一极低的光学损耗特性，使其在深紫外及近紫外应用中具有显著优势。同时，该材料具备抗太阳能（抗光辐照）能力（评级为Good），能够有效抑制长时间紫外辐照导致的玻璃着色，大幅延长光学系统的使用寿命与可靠性。
均匀性与精准折射率控制
在光学系统中，材料内部折射率的微小波动都会直接转化为系统的波前误差。PBL35Y在此核心指标上展现出了工艺水准：
均匀性阶梯：针对不同口径需求，PBL35Y提供了严苛的均匀性保障——对Φ160mm及以下尺寸的均匀性指标达1.0×10⁻⁶；对Φ210mm及以下尺寸为1.6×10⁻⁶；对Φ260mm及以下尺寸则达2.0×10⁻⁶。这种全面覆盖大尺寸光学元件的均匀性，使得它在制造大口径精密透镜和分束镜时游刃有余。
精准的批次稳定性：在折射率控制上，该型号单一批次内的ni偏差仅为±2×10⁻⁵，折射率公差被精确控制在了+10±20×10⁻⁵的极窄区间内。这种批次一致性，能够极大程度地降低多镜片组装配后的色差与像差补偿难度，确保了最终成像系统的高分辨率与超低畸变。
核心应用场景：半导体光刻与前沿天文观测
凭借上述优异的光学特性，PBL35Y战略应用价值：
在半导体制造领域，它是步进相机（Stepper）和照明系统中光刻透镜的理想材料，能够保障多组镜片间的一致性，提升芯片曝光的极限分辨率；在天文光学领域，PBL35Y凭借出色的紫外透光性能，被广泛用于制造光谱仪相机中的大尺寸精密透镜与分束镜，助力科研人员捕捉更深远的宇宙信息。
深圳市京都玉崎电子有限公司作为专业的电子计测与光学设备代理商，长期致力于将全球顶尖的精密材料引入国内市场。公司可为客户提供PBL35Y及i-Line系列全型号的选型咨询、原装现货供应与深度的技术支持，助力国内半导体装备与前沿科研实现更高水平的发展
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